在光刻胶制造中，光引发剂、颜料等固体颗粒的分散均匀性直接影响成膜质量和光固化效率。凯密泰克（Chemi Tech）开发的专用分散剂通过独特的分子结构设计，有效降低颗粒表面能，防止团聚现象。其作用机制包括：
锚固基团吸附：分散剂中的极性基团紧密包覆颗粒表面，形成空间位阻层，减少颗粒间范德华力。
溶剂化链延伸：在树脂体系中展开的长链结构维持分散稳定性，尤其在高速搅拌和长期储存中抑制沉降。
光刻胶应用案例：
某半导体光刻胶企业采用凯密泰克分散剂处理纳米级光引发剂（粒径≤200 nm）。结果显示：
分散后颗粒粒径分布标准差下降至±15 nm（原为±50 nm）；
光固化效率提升30%，因颗粒均匀分布增强了紫外光吸收一致性；
光刻线条边缘粗糙度（LER）降低至5 nm以下，满足DUV光刻精度需求。
技术优势：
兼容性强：适用于丙烯酸酯、环氧树脂等主流光刻胶体系；
低添加量：仅需0.5~2 wt%即可实现长效分散；
耐温性：在光刻胶烘烤工序（80~120℃）中保持性能稳定。